中国半导体设备自主，真比造原子弹还难吗？( 二 )
就拿中芯国际来说 ， 历次中微的最新设备出炉 ， 中芯国际多是首批“尝鲜”兼“试毒”的下游客户 。 一直到2016年 ， 中芯国际也还是中微占比达到39%的第一大客户 。而中微与中芯国际的崛起背后 ， 企业本身的奋斗固然是主要原因 ， 但必须承认的是 ， 所有的科技革新背后 ， 其实都离不开一个肯花力气 ， 愿意烧钱的政府 。Part.3如果说过去十几年的潜伏 ， 是半导体设备产业从零到1的国产化起步 ， 那么从2018年起的三年催化 ， 则是国产半导体设备全面崛起的临门一脚 。背后原因有三：（1）2018年开始的那一场断供 ， 让半导体自主从一个产业的隐忧 ， 变成了一个国家的明伤 ， 半导体不自主则科技不自主 ， 成为所有人的共识 。（2）刻蚀机本身的市场 ， 已经随着芯片制程的不断提升而飞速发展 。（3）科创板、国家大基金的出现 ， 让中国半导体 ， 不再只是一个靠情怀生存的孤岛 ， 创业者有未来 ， 投资者能退出 ， 企业有联合 ， 一个健康的商业生态正蓬勃崛起 。第一点就不再赘述 ， 这里需要解释一下的是第二点 ， 刻蚀机的重要性 。芯片领域 ， 有一个约定俗成的产业规范 ， 叫做摩尔定律：集成电路上可容纳的元器件的数量每隔18至24个月就会增加一倍（相应的芯片制程也会不断缩小） 。但制程如何提升呢？英特尔、高通、海思这些设计企业名头虽响 ， 但他们只是摘桃子的下游 。 真正起决定作用的 ， 其实是材料与设备企业 。前面我们提到 ， 光刻机是其中起到决定性作用的一环 ， 但提升制程 ， 光刻机不是万能的 。打个简单比方 ， 从硅片到芯片 ， 可以想象成从一张纸最终雕刻成窗花的过程 。 光刻机是画花样的笔；而刻蚀机 ， 则是用物理或者化学方法 ， 根据花样来进行雕刻的刀 。制程要先进 ， 画笔首先得细；但刻刀也不能落下 。 更何况 ， 随着单位体积内晶体管数量越来越密 ， 想一次加工完全部图案 ， 产品良率自然受到影响 。 这时候 ， 多重刻蚀技术就登场了 。其原理可以简单理解为：先打线稿雕刻第一遍 ， 再处理细节二次、三次雕刻 。 这也就导致了 ， 每次芯片制程的提升 ， 都会导致刻蚀步骤的成倍增加 。
而近些年开始 ， 刻蚀机在芯片各种半导体设备投资中的占比 ， 已经一跃超过光刻机 ， 成为最大的一头 。
而借着市场东风 ， 中微自然一跃而起 ， 跻身千亿市值俱乐部 。当然 ， 市场机遇之外 ， 成就了中微估值的 ， 其实也离不开国家大基金、科创板的托举 。 而中微正是国家半导体大基金的第一个被投 ， 2014年一次性拿到4.8亿人民币 。 而科创板的出现 ， 更是让中微走到台前 ， 从此什么都可以是问题 ， 唯独钱不是问题 。资本做引 ， 芯片 ， 变成了科技致富、企业估值一飞冲天的不二法门 。 星星点点出现的江上舟、张汝京、尹志尧 ， 被一条名为科技自主的暗线牵连 ， 踟蹰独行二十年后 ， 也终于成为了市场的主角 。最近 ， 我们询问一位知名二级市场分析师：中微、中芯国际 ， 他们的实力真的配得上他们的市值吗（中微在市场远远落后的情况下 ， 二级市场估值接近lam三分之一）？他这样反问：如果中微的二级估值都追不上应用材料与拉姆 ， 工程师住不起房 ， 企业没有发展的动力 ， 我们的自主突破又从何谈起？尾声回到最根本的那个问题 ， 中国半导体崛起难吗？难！在刚毕业的大学生到七旬高龄的归国专家一同努力下 ， 七十年发展我们仍然没能走出包围 。但中国半导体发展真的有那么难吗？或许也没那么难 ， 诀窍总结其实很简单：天时地利人和 。无数像江上舟、倪光南一样振臂高呼的官员学者 ， 张汝京、尹志尧一样应声而起的实业家 ， 无数为科技自主而奋斗的精英 ， 他们是中国芯片、操作系统、精密设备的人和 。上海的半导体 ， 北京的软件、AI ， 合肥的屏幕……地方的支持 ， 缔造了产业的奇迹 ， 他们是科技兴国的地利 。基础齐全 ， 压力、资金、国家关怀 ， 三者一同就位 ， 则构成了中国半导体发展几十年来前所未有的天时：对中国半导体来说 ， 未来充满希望 。
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