问董秘|请问公司无掩膜光刻机是否为自主研发,当前技术水平如何...,投资者提问:董秘您好
投资者提问:
董秘您好 , 请问公司无掩膜光刻机是否为自主研发 , 当前技术水平如何?主要应用于哪些领域 。
董秘回答(苏大维格SZ300331):
【问董秘|请问公司无掩膜光刻机是否为自主研发,当前技术水平如何...,投资者提问:董秘您好】您好 , 公司面向无掩模光刻 , 研制了紫外激光直写光刻的关键技术、软件和装备 , 其主要应用领域为超精密柔性传感器、柔性电子、新型显示、功能光电材料等领域;根据我们自身对行业技术的了解 , 目前公司光刻设备在相同或类似领域中处于技术领先地位 。 谢谢!
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