国产上海微电子研发的光刻机对比ASML：差距无法接受

2026-01-24

早前确实有相关的报道说上海微电子装备有限公司预计2021年要推出28nm光刻机，但是这一消息官方并没有进行公布，也就是它的可信度并不是很高，目前上海微电子做的光刻机还是以90nm为主， 28nm技术应该还是实现不了量产。

文章图片
最近老美对于华为打压升级，让芯片、光刻机等东西变得非常热门，越来越条友开始关注我们国产光刻机究竟处于什么水平，能不能摆脱对美方技术依赖。而我们国产光刻机处于比较领先的还是上海微电子，关于这个水平一直受到人们争议。

文章图片
一些媒体报道说国产光刻机目前能够达到5nm水平了，而一些媒体又说国产光刻机还是处于一个90nm阶段，而在2018年时也曾经报道下面这条消息。中科院的“超分辨光刻装备研制”通过相关验收，它的光刻分辨力达到22nm ，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。

文章图片
上面还是处于实验室阶段，也就是离真正商用量产还是需要不少时间来检验。而关于这个5nm和90nm水平，不少朋友应该是混淆了光刻机和蚀刻机这两个不同机器。中微半导体的蚀刻机确实达到了5nm水平，而国产光刻机仍然处于90nm水平。

文章图片
现阶段来说上海微电子做的还是突破达到28nm水平，因此这个11nm消息可信度一点也不高。这里一部分条友会有疑问，中芯国际前段时间已经不是替华为代工14nm工艺芯片了（荣耀Play4T搭载这款芯片）。其实这里也要明白，中芯国际用的也是荷兰ASML光刻机。目前中芯国际得到了大量的资金投资，现阶段它主要目标还是突破7nm技术，也就是未来可以代工7nm工艺芯片。

文章图片
【国产上海微电子研发的光刻机对比ASML：差距无法接受】对于光刻机这个东西是急不得，首先这个基础的28nm也没有突破，就想着说直接达到这个11nm ，确实有点像做梦一样。想要在光刻机有所突破，一方面要加大相关的研发投入，研发如果跟不上一切都是纸上谈兵。

推荐阅读

上一篇：持续排除中国华为网络设备，加大拿电信公司选择爱立信与诺基亚

下一篇：人类的遗憾，语音识别准确率永远达不到100%？