国产芯片成功“破冰”，2nm芯片未来可期
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众所周知在电子技术领域 ， 芯片一向是我国的一大短板 ， 然而要知道我国并不是不具备制造芯片的技术与生产芯片的能力 ， 只是因为我国国产的芯片相较于国际上当前通用的芯片稍显落后 。 比如如今在美国芯片领域 ， 5纳米的芯片技术已经相对普及 ， 而我国芯片制造工艺依旧停留在14纳米芯片水平 。
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近段时间 ， 中科院宣布了一条重磅消息 ， 在科学家们的不断努力下 ， 我们终于在芯片领域取得了重大突破 ， 那就是一款2nm的超高精度芯片诞生了 ， 据悉 ， 这款芯片的全称叫做垂直纳米环珊晶体管 ， 由硅-石墨烯-锗基片这三种材料组成 。
众所周知 ， 目前台积电最先进的芯片工艺为5nm工艺 ， 即将面世的麒麟1020、苹果A14芯片都采用5nm工艺 ， 而且就连赫赫有名的荷兰ASML公司的2nm光刻机也还停留在研发阶段 ， 在这个时候我国中科院研发出了2nm芯片 ， 可以说是一个重大突破 ， 喜讯刚刚传来 ， 问题又接踵而至 。
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然而我国尚不具备5纳米芯片的光刻机 ， 更不用说2纳米的光刻机了 ， 即使我国中科技具备了2纳米芯片的研发技术 ， 依旧无法在实践中大量推广 。 要知道作为世界知名企业的荷兰的ASML公司当前都不具备2纳米的光刻机 ， 中科院取得的这一成就也是国产芯片里程碑式的意义 。
【国产芯片成功“破冰”，2nm芯片未来可期】不过中科院取得的这一成就 ， 对于我国各大企业也是一种激励 ， 中科院当前的研究意义重大 。 如今在美国企业的逼迫下 ， 国产企业推进自主可控将成为主流意识 ， 相信在未来的时间里 ， 技术方面可以全面突破 ， 不再依赖美国所提供的相关芯片及技术 。 加油 ， 中国芯！！!
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