脑极体方寸之困：纳米级芯片通关路，原创( 四 )
对于我国来说 ， 正如开头提到到 ， 除了高企的成本和研发费用外 ， 还有贸易限制等其他非技术因素 ， 我国自研的光刻机装备还停留在22nm的光刻工艺水平上 。
我们在看到国产半导体设备产业实现突破的同时 ， 也要冷静地认识到我们与国际先进芯片工艺上面的巨大差距 。
从筚路蓝缕到砥砺前行 ， 仍然是未来国内半导体产业的必由之路 。
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