中科院研发出2nm芯片，万事俱备，只缺2nm光刻机！
中科院研发出2nm芯片 ， 万事俱备 ， 只缺2nm光刻机！芯片行业一直都是我国的软肋 ， 尤其是在芯片的制造工艺上 ， 这么多年来我国也没有取得多大的进展 ， 原因是我国缺乏制造芯片的必要设备——光刻机 。 当今世界主流的芯片是采用7nmEUV工艺的芯片 ， 台积电甚至已经准备开始5nm芯片的量产了 ， 而我国国产芯片却还停留在14nm时代 ， 光刻机更是停留在90nm时代 ， 这是一件可悲的事情 ， 但同时也是激发我们进步的动力 。
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近段时间 ， 中科院宣布了一条重磅消息 ， 在科学家们的不断努力下 ， 我们终于在芯片领域取得了重大突破 ， 那就是一款2nm的超高精度芯片诞生了 ， 据悉 ， 这款芯片的全称叫做垂直纳米环珊晶体管 ， 由硅-石墨烯-锗基片这三种材料组成 。
众所周知 ， 目前台积电最先进的芯片工艺为5nm工艺 ， 即将面世的麒麟1020、苹果A14芯片都采用5nm工艺 ， 而且就连赫赫有名的荷兰ASML公司的2nm光刻机也还停留在研发阶段 ， 在这个时候我国中科院研发出了2nm芯片 ， 可以说是一个重大突破 ， 喜讯刚刚传来 ， 问题又接踵而至 。
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即便我国研发出了2nm制程工艺的芯片 ， 可我们又拿什么来量产这种芯片呢？答案是没有办法量产 。 原因很简单 ， 那就是我们没有适合生产2nm芯片的光刻机 ， 换句话说 ， 以现有的设备工艺 ， 远远达不到这个水准 ， 中科院实在是太“超前”了 。
如果不能量产 ， 那么中科院的研发成果就没有意义吗？其实也不是 ， 现在对于我国而言 ， 当务之急就是进口最先进的光刻机 ， 或者在国产光刻机上打开突破口 。 可以说是“万事俱备 ， 只缺光刻机” ， 而我们也知道 ， 光刻机并不是轻易就能做出来的 ， 2nm精度的光刻机技术更是难到令人难以想象 。
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早在2018年 ， 中芯国际曾向荷兰光刻机巨头ASML订购两台光刻机 ， 但直至今日 ， 中芯国际依然没有得到现货 ， 可见 ， 在光刻机这种高科技设备领域 ， 求助于人是行不通的 ， 并且这种设备往往会出现垄断局面 ， 这对我国都是极为不利的 。
【中科院研发出2nm芯片，万事俱备，只缺2nm光刻机！】说到底 ， 只有我国研发出领先于世界的光刻机 ， 才能使我国彻底不受制于人 。 为此 ， 我国也成立了集成电路专项基金 ， 截至目前 ， 该基金已经投入了3000多亿人民币的研发资金 ， 相信在国家的大力扶持下 ， 国产光刻机一定会有光彩照人的那一天 。
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