国产光刻机何时出现，上海微电子重大突破，但现状仍然举步维艰
在许多工业设计之中 ， 最困难的是制造手机芯片 。 近年来 ， 由于芯片问题 ， 我国科技企业频频遭遇“瓶颈” 。 许多中国人对此感到担忧 。 国内不少厂商也开始加快布局芯片的自主研发 。 虽然自主研发的国产芯片已进入快车道 ， 但由于我国长期没有先进的光刻设备 ， 与国际顶尖巨头仍有较大差距 。
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众所周知 ， 芯片设计的研究与开发离不开光刻机 ， 特别是具有先进工艺技术的芯片 。 但ASML是全球先进平版印刷市场之上的巨头 。 此前 ， 中芯国际还花了很多钱购买了一台先进的平版印刷机 。 但由于美国的原因 ， ASML光刻机无法顺利进入中国 ， 这也给我国7Nm及更先进的工艺技术芯片的发展带来了更严峻的挑战 。 要知道 ， 我国目前的量产光刻机还处于90nm的阶段 ， 比ASML光刻机落后了十多年 。 可见差距之大 ， 也说明我国加强光刻机建设刻不容缓 。
虽然之中芯国际已经表示可以不用光刻机开发7Nm工艺 ， 但5nm甚至更先进的工艺芯片产品绝对离不开光刻机 。 如果没有光刻机 ， 就意味着中国在未来的芯片竞争中将落后于对手 ， 未来很可能被对手欺负 。
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然而 ， 最近传来的好消息是 ， 光刻机的问题可以得到有效的解决 。 据悉 ， 上海微电子有限公司在紫外光源的帮助之下 ， 成功实现了22nm的突破 ， 推动了国产光刻机的发展 ， 向前迈进了一大步 。 一旦技术成熟 ， 意味着22nm光刻机将在中国问世 ， 这将推动国产芯片的进一步发展 ， 同时也给其他平版印刷厂家带来了信心 ， 这将有助于推动更多的厂家共同打造国产光刻机 ， 提高中国在国际市场之上的竞争力 。
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【国产光刻机何时出现，上海微电子重大突破，但现状仍然举步维艰】虽然我国在光刻领域取得了新的进展 ， 但国内光刻生产所需的零部件仍需从国外市场进口 。 显然 ， 在平版印刷的生产过程之中 ， 中国仍然严重依赖外国 。 然而 ， 无论多么困难 ， 中国企业都不能放弃 。 光刻机的自主研发是一个漫长的过程 。 未来 ， 我们需要不断努力 ， 掌握自己手中的核心技术和供应链 。 希望今后国产光刻机能在国际市场之上取得更好的成绩 ， 使国产芯片能够立足于全球市场 。
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