三星宣布10nm EUV DRAM芯片现已完成客户评估，即将大规模量产
三星于近日宣布 ， 已经成功将EUV（极紫外光刻）工艺率先用到了DRAM内存颗粒的生产中 。 目前已经出货的100万个使用该技术的10nmDDR4DRAM已经完成了全球客户的评估 ， 计划在今年下半年开始在韩国平泽市建立第二条半导体生产线 ， 专门生产10nmEUVDRAM芯片 。
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【三星宣布10nm EUV DRAM芯片现已完成客户评估，即将大规模量产】按照三星方面的介绍 ， 之所以将EUV工艺应用在DRAM芯片 ， 是因为该技术不仅能提高DRAM芯片的性能 ， 还对产量有着不少的帮助 。 三星计划为10nmDRAM或高端14nmDRAM导入EUV工艺 ， 明年开始大规模量产基于10nmDRAM的DDR5和LPDDR5DRAM芯片 ， 以满足客户的需求 。
除三星之外 ， 早前英特尔和台积电等半导体巨头也表示准备扩大EUV工艺在芯片生产中的应用 。 或许在未来 ， 我们将会看到更多的终端设备使用上使用EUV工艺的DRAM芯片 。
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